PACVD相关论文
Precise control of plasma nitriding in duplex treatment for the balance between scratch properties o
During the last decade,the duplex treatment,i.e.prior plasma nitriding (PN) plus plasma assisted chemical or physical va......
对用热阴极辉光ＰＡＣＶＤ方法合成的金刚石厚膜，采用扫描电子显微镜进行了观察，研究了金刚石的生长机制．
The diamond thick film synthesized......
采用射频－直流等离子增强化学气相沉积法制备出类金刚石薄膜，用弯曲法测定薄膜的内应力。类金刚石薄膜中存在１－４．７ＧＰａ的压应力，沉积工艺对薄膜......
DEPOSITION OF TiBN HARD FILMS ON HOT-WORKING-STEEL DIES FOR ALUMINIUM EXTRUSION VIA A DUPLEX PROCESS
Hot working steels have been used as die materials for hot extrusion of aluminium.Due to tribological interaction at ele......
对用热阴极辉光ＰＡＣＶＤ方法合成的金刚石厚膜，采用扫描电子显微镜进行了观察，研究了金刚石的生长机制。......
实验表明,高速钢基体上的PECV-TiN薄膜处于压应力状态,其绝对值随沉积温度的升高而降低,反映微观组织状态及其不均匀性的衍射峰半......
爱恩邦德提供最高性能的PVD、CVD和PACVD磨损保护、低摩擦和装饰性涂层以及涂层设备。重点为切削、注塑和成型工具提供高品质标准......
总部和设备制造部设在瑞士的爱恩邦德公司是耐磨损和低摩擦涂层行业的领军者。业务范围包括PVD、CVD、CVA、PACVD设备制造和涂层服......
研究了参硼剂Ｂ（ＣＨ３Ｏ）３的分解离化行为及渗硼工艺。结果表明：在室温条件下Ｂ（ＣＨ３Ｏ）３主要分解离化为Ｂ（ＣＨ３Ｏ）Ｈ＾＋、Ｂ（ＣＨ３Ｏ）ＯＨ和Ｂ９ＣＨ３Ｏ）２；在设计的工艺条件下可以得到均匀致密的渗硼层。......
对新型渗硼剂Ｂ（Ｃ２Ｈ５）３的渗硼工艺进行了研究。结果表明，在正常渗硼工艺条件下，基体表面没有形成连续致密的渗硼层，而是了一层数μｍ厚的硼碳层；在......
